光譜分析儀的分析原理是將光源輻射出的待測元素的特征光譜通過樣品的蒸汽中待測元素的基態(tài)原子所吸收，由發(fā)射光譜被減弱的程度，進而求得樣品中待測元素的含量，它符合郎珀-比爾定律 A= -lg I/I o= -LgT = KCL 式中I為透射光強度，I0為發(fā)射光強度，T為透射比，L為光通過原子化器光程由于L是不變值所以A=KC。光譜分析儀的屏幕顯示測量條件、標記值、其它數(shù)據(jù)以及測量波形。屏幕各部分的名稱顯示如下：
1、光譜譜寬的測量
譜寬即光譜的帶寬，使用光譜分析儀可以測量LD、發(fā)光二極管的譜寬。在光譜的譜寬測量時，要特別注意光譜分析儀系統(tǒng)分辨率的選擇，即原理上光譜分析儀的分辨率應當小于被測信號譜寬的1/10.，一般推薦設置為至少小于被測信號譜寬的1/5。
在實際的測量中，為了能夠準確測量數(shù)據(jù)，一般選擇分辨率帶寬為0.1nm以下。分辨率帶寬RES位于SETUP菜單中的一項，直接輸入所要設定的分辨率帶寬的大小即可。當選擇的分辨率帶寬不同時，從光譜分析儀觀察到的光譜形狀有很大的不同，并且所測量得到的譜寬大小的不同。
在觀察光譜譜寬的同時，也可以通過光譜分析儀讀出光譜的中心頻率、帶寬、峰值功率和邊模抑制比等參數(shù)。同時可以啟動MARKER菜單，進行相應的標識，以方便量取所需要測試的參數(shù)值。
2、邊模抑制比的測量
邊模抑制比（Side-ModeSuppressionRaTIo，縮寫為SMSR），SMSR表示峰值能級與橫模能級之間的能級差值。
一般測量邊模抑制比時，需要配合使用MARKER菜單和ANALYSIS菜單中相應的鍵。用MARKER菜單對主波峰值和高的副波峰進行標識，讀取兩者的峰值功率值。邊模抑制比為高峰與次高峰之間的能級差。可以通過ANALYSIS菜單中相應的子選項計算得到后的值。
3、增益的測量
在進行OA板或光放大器模塊測試的時候，需要測試增益參數(shù)（Gain）。增益定義為輸出信號功率outP與輸入信號功率inP之比。增益的一般表達式如式（1）所示：
以上的公式使用于以mw為單位的情況。若兩者單位為dBm，則G的值為兩者之差。
在進行增益的測量時，需要用到TRACE菜單中的相關選項。首先將TraceA設置為未接放大器之前的輸入光，按下FixA；再將TraceB設置為經(jīng)過光纖放大器之后的輸出光，按下FixB;取兩者的峰值功率，即可計算出。
